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VAT

发布时间:2020-10-05 22:17:39  浏览次数:

image.pngVAT 真空阀为专门的真空、超高真空和超高真空条件下的所有真空水平而设计。

增值税在洁净室的应用环境下,并针对不同的应用环境,并针对不同的应用环境,在正常情况下正常运行。如此。  

增值税拥有全面的隔离和控制阀、气体计量阀、传输阀关闭、排气和溢流阀阀产品组合,以及所有应用领域提供最佳解决方案。

技术决定

为了永久保证最佳的这些真空隔离或控制功能,VAT真空阀使用VAT开发的不同真空阀技术。除了颗粒防护功能外,专利技术还确保在大量关闭和控制循环中的合理操作。  

因此,适用于各种应用的增值税真空闸阀、真空角阀以及蝶形真空、摆式真空阀或全金属真空阀为所有领域的真空阀解决方案设定了标准。

挑战,我们也期待为您提供最佳解决方案。

除了网站上的标准标准之外,我们也很乐意为我们的远程系统开发解决方案提供联系方式来定制我们的解决方案,请联系我们。


更多信息,请从以下类别阀门中进行选择:  

真空控制阀

真空隔离阀

真空闸阀

真空角阀/直列/圆柱阀

真空蝶阀

真空摆阀

泄压/排气排气

气体计量阀

3位真空阀

真空止回阀


迅速关闭/截止阀

真空全金属数据库

真空传输阀

真空传送门

真空多阀组



什么是真空阀?

阀是在真空的供气或排气阀用于系统中的装置。通常它是隔离真空区域,例如工艺室,或控制进出气体量。真空可以手动真空、气动、电动、电动或电磁操作真空阀是真空系统的组成部分,真空系统用于各种工业生产应用

什么是理想的真空阀?

例如,真空工艺对工艺环境的某些要求以及化学和物理性能特别高,这几乎适用于所有半导体生产领域以及使用真空系统的研究,适用于基础研究领域的那些处理要求。能力,例如这些极高极低的温度、强辐射和压力高达 10 -15 mbar 的极端真空(XHV)——目前的技术上达到和可测量的极限——通常添加到要求。

这些应用中的真空在以下方面不同的标准真空阀:

  1. 最小化的排放量通过对所用
    的开启和优化,不会通过其阀门外壳、机械或密封的材料通过气雾控制,也不会通过对所用的控制。材料的选择,以及通过某些设计的,这些细节可以完全地来处理和处理下一个颗粒或在某些特殊情况下。
     

  2. 将这些运动脉动通过脉动记录下的动态运动
    情况产生影响,例如通过额外的释放阀。除了设计特点外,高性能的运动颗粒运动主要通过控制这样的过程曲线中的方式来化小尺寸。与升降机的这些运行类似,在接近门点前例如降低关门速度,以阻止“撞车”。修改这些曲线通常可以在关闭时间和关闭频率方面适应需要的条件。

  3. 中化学行为总是由于的几何形状而改变,而它们的物理行为
    的均匀性。区域瓣的分布、混合和温度。这样,设计了一个基本的附加技术,几乎可以打开一个阀门功能

  4. 这可能是该行为表现出色的标准解决方案,意味着其不同的标准解决方案可以表达出来
    不同的行为。在使用过程中,虽然出 现了确定的性能值,但其表现出的真空阀期间优化,始终可以在表现出相同的行为,确定非常狭窄的限制,超过间隔时间。这意味着它们显示使用稳定的真空过程并用地降低过程控制的复杂性。

真空阀的种类有哪些?

例如与其他阀门一样,真空阀使用一些基本机械装置,阀门闸阀、瓣或旋转盘来分离或隔离真空区域并进行体积流量。但是,这些机制的条件是完全不同的。例如,高度无颗粒、这些非常小流量流量的合理控制、密封、最小振动和冲击力是进行基本的机械特性。因此,通常针对真空阀不同的设计。情况下,并导致的振动和冲击(如果有的话)。另外,最小的运动控制可以非常精细地测量,密封件经过优化,因此希望下它们释放任何颗粒,并且它们的特性或特性动态特性在长时间使用中保持稳定。

使用以下基本类型的真空阀:

  1. 狭窄的安装深度,最大的电(最小的流阻)需要的空间是闸门的行程空间。真空传送阀或这些真空门的形式,产品通过真空门被引入真空处理室。

  2. 角阀的通用真空阀非常容易真空。非常好的尺寸,通常在密封器和传感器方面显示。平均导率,非常好,如果有执行精度的可控性

  3. 真空蝶阀——主要用于应用。非常窄的安装细节,良好的性能,快速控制和合理的可控性。

  4. 摆阀安装非常窄,精确的尺寸结合,非常好的绝缘能力和非常高的控制率。

  5. 这些流动性——一种单一类型的真空控制针对从第一次打开完全打开阀门的非常特殊的流动行为进行了优化。

  6. 气体计量阀或流量泄漏——特别适用于非常精细的计量,例如,低工艺气体。

  7. 泄压阀或安全排气阀完全控制(通常是)真空系统并阻止规定的压力条件的阀。

  8. 真空止阀通常用于被动式、体积和压力控制系统之间的流量控制。

  9. 快速阀特点 - 主动保护阀,通常和极速保护 X 的真空量或关闭腔室:因快速泄漏而导致的真空损失。中,通常由扇形真空阀(通常是真空闸阀)额外支持,以确保即使在非常高的压差下也能实现气密隔离。

  10. 全金属阀门——为真空压力、温度和辐射设计的特殊真空条件组。主要特点:对金属密封条件(金属)密封,而不是承受使用条件的弹性金属密封条件。 

  11. 多减少单元- 特殊类型的真空阀,将多个真空阀组合在一个单元中:数量,客户速度更快。通常根据要求的真空阀特性主要确定一种。  

  12. 三个真空阀——真空隔离阀和开放式之外,还可以定义第三个特殊的阀门位置第三三条的接触压力位置,会在密封件上实施,而不会在视觉上,使压力在不断变化。

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       必须控制范围内每个组件的复杂性,以可重复的方式精确满足定义的测试组件都,是所用系统的质量越小,生产条件越小。。

组件的预测是当今工业生产的标准,但在具有纳米结构的半导体工业中,它可以反复达到技术的极限,因此性也决定了技术进步。

如果即使是各种水平的类似变化影响了半导体生产商的质量和不同幅度,那么也必须以最小的方式满足所有生产标准。

动态显示组件,监视组件,例如,在半导体工艺室中。作为物理室。压力条件的变化,例如工艺气体的变化,导致内部的各种变化和循环流、表面处和环境温度的变化,因为的元素改变了在新的监控动态变化,因此计算出理想的和稳定的

潜在生产问题的主要:在一个运动中存在循环挑战的真实表现行为,对于一种类型来说,所有的都是相同的。

为了能够满足能力、几乎零精度范围内的决定性挑战,其设计特性。是真正上定义的地方。其中的制造,它们总是一样的,然后是生产过程的设计,从材料到最终产品的每一步运输以及包装和都被定义和监控到最小化的微小细节。这里的“细小”着提前识别相关的控制参数,并将它们的所有监控设计为可精确。

在行业既定的既定方法中,“准确”地制定了任何这样的诊断原因或定义的变化范围的定义的立即分析,并采取措施使过程恢复到正常状态。

可以确保组件始终保持在定义的范围内,即使在这种生产方式的不同生产周期和不同的范围内。

为不改善对过程价值的持续性,“复制合理”与变更管理相关联的方法帮助下及时改变在质量和相关生产过程中的影响范围,在此方面的影响。中安装这些的顾客自由合作进行。 

方法使该系列产品的镜像客户对影片生产具有非常高的这种影响力,确保他们能够在整个工作期间始终保持该系统的购买能力,并以尽可能多的详细规格进行使用。降低了应用程序的复杂性,例如更容易制造过程的重现可控性。 


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